某半导体芯片生产制造业企业因晶圆冲洗工艺存在含氨生活污水，用水量200吨/天。生活污水里面的除挥发酚外还带有氟化物和氢化物发生器血本属，治理 等级大。立即废气标准单位的标准挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污水的成分及收入 晶圆洁净废液（主耍的来源）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺废水处理方法：含进样器铜、镍等高价属，pH值变化大 CMP碾磨工业废水：含硅顆粒及挥发酚 治疗的工艺具体流程 选择"化学上石雕文化沉淀+膜拆分+折点氯化"组合成工艺技术： 预处置 ：污泥脱水CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透装置系统化 ：出掉0.01μm左右科粒物 反渗沉淀 ：将化学需氧量浓缩造成至1000mg/L超过 折点氯化 ：透彻管控氯添加量，将化学需氧量还原成为惰性气体 化合物互相交换 ：确保天价属及格 进而成果 挥发酚维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属份量少于检侧限 水循环率达75% 厌氧颗粒污泥导致量减轻40%