某半导体设备治理芯片制做厂在晶圆生产制作方式中，用到硅烷去硅外延性生长期，废气排放洗條塔发生高氨水浓度含硅化工工业废水。化工工业废水有pH下跌大（2-11）、硅含量的高的结构特征，传统型治理工艺易显现硅垢空气能管道堵塞大问题。 废渣因素及原因 废渣主要组成为： 溶水性硅酸盐 ：SiO₂浓度值达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢氧化物钠 ：干洗塔强酸强碱干洗液残余物 粉末硅 ：納米级SiO₂溶液 痕量砷 ：原辅材料残渣带往 处置方法程序 什么是创新用于"多级中合+膜净化+化掉结晶体"工艺流程： 考试内容一级结合 ：用CaO调整pH至4-5，导出硅酸钙发展，硅弄掉率60%。 一级结合 ：加Na₂CO₃将pH完善至9，进一次沉淀自己超过硅，串连用镁剂除砷。 反渗透装置整体 ：0.02μm卫浴陶瓷膜滤出nm级硅颗料，通量安稳在80LMH。 MVR化掉器 ：原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 高盐污水，析出出Na₂SO₄副好产品，水使用率超90%。 最中特效 总硅从1500mg/L降下来5mg/L下类 砷含水量从0.8mg/L降下来0.01mg/L 体统无积灰运转不低于2年 第二年收售氢氧化钾钠结晶约800吨