该公司是全国智领的LED集成电路芯片研发商，生产销售方式中产生大批量含巨资属、充分强酸强碱及高酸度挥发酚的污生产污水 。根据污生产污水 有效成分繁复且污染问题物酸度高，过去的加工方式方法仍未合格直接排放，公司急需要一系列高效性、稳定的的污生产污水 加工系统性。 废液物质及来源地 蚀刻生产废水 ：含铜、镍等天价属正离子，pH值起伏大。 无机生产废水 ：是来自于光刻胶刷洗步骤，含异丙醇、异丙醇等生物碳石油醚，COD可以达到5000mg/L上述。 氧化还原电位污水 ：源自耐腐蚀色谱形成（CVD）工艺设备，氟化物渗透压可超过800mg/L。 净化处理工艺技术程序流程 预清理步骤 调低池 ：匀衡污水水质需水量，抑制撞击容载。 电学结晶 ：加药系统NaOH调理pH至9-10，使天价属进行氢空气氧化物质沉淀自己，去掉率>95%。 生物化学治理环节 活性污泥法过酸 ：分解成大生物大分子可挥发物，增长废气可生化模式性。 A/O加工制作工艺 （厌氧发酵-好氧组和）：使用高效、性价比最高反硝化细菌作用-反反硝化细菌作用枝术，化学需氧量删去率>98%。 深层次处置时段. 活性酶类炭吸咐 ：进三步出掉残渣有机质物，有效确保COD<50mg/L。 膜过滤水 （UF+RO）：满足化工废水回收，回收率>70%。 最中效果好 留水土质以达到《城市污水一体化污染物条件》（GB 8978-1996）特一级条件。 血本属含碳量大于0.5mg/L，COD<50mg/L，高锰酸盐指数<5mg/L。 常年降低焦化废水直接使用量上涨约15万吨，中水回用水在产出线清晰制作工序，合理安排生产成本约140万元/年。