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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

产品后台 该半导体电子器件手工制造单位地属西北地方,通常生产加工融合集成运放电子器件,日释放含氟污水约800吨。由本地环保型基准改善,已有加工治疗体系無法要氟化物释放密度达不到5mg/L的新要,单位投资项目1八百万元修建专注含氟污水加工治疗系统化。 废渣基本成分及來源 废气最常见来源地于处理芯片制作全过程中的刻蚀工艺和清洁工艺,最常见水污染物质比如: 氟阴阳离子溶液浓度:300-800mg/L pH值:2- 包含有少量的硅酸盐、聚磷酸盐 进样器巨资属如铜、镍等 进行处理技术工作流程 选用"预除理+化学物质发展+进一步除理"搭档流程: 调池:义均水体发电量,设计pH在线上监测器 特级反响池:加药系统氢硫化钙,调控pH至7-8,出现氟化钙沉定 两级积累池:积累溶合氟化钙污泥干化 一级的反应池:加药氯化钙和缩聚氯化铝,全面骤弄掉残余物氟亚铁离子 2次元沉定池:2次沉定区分 砂滤平台:出掉悬浮物物 气体吸附性炭气体吸附:消除无机物和氢化物发生器巨资属 活性工业废水整理控制系统:板框压滤脱水现象,活性工业废水水分含量率降下来60%低于 终极效果好 平台开机运行可靠后,满水后饮用水质: 氟亚铁离子氧化还原电位:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 巨资属水分含量均不高于检测限 几乎无法《电子元器件工业企业水污染破坏物摆放原则》(GB39731-2020)必须,第二年缩短氟化物摆放约180吨。

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